镀镍
当前钕铁硼镀镍普遍采用镍/铜/镍复合镀层体系。
预镀镍的目的是为后续镀铜提供一层正向、结构致密的底镀，确保后续铜正常施镀，防止基体被铜液腐蚀，确保镀层与基体的结合力及深镀能力等。
预镀铜具有良好的结合力和深镀性能，但由于预镀铜属于络合型镀液，且溶液电流效率低，不能在松散多孔的钕铁硼基体上得到连续合格的铜镀层，因此很难在钕铁硼基体上打底。
钕铁硼预镀镍多采用瓦特型镀镍工艺，适量使用半光亮镍添加剂，其目的不是追求亮度，而是利用阴极电流密度大，有利于镀层快速沉积。
瓦特型镍镀液也属于简单盐镀液的类型，由于需要在钕铁硼基体上直接施镀，对镀液、辊筒和操作等方面的要求和钕铁硼镀锌的要求差不多。
一般而言，钕铁硼件镍层的平均厚度应不少于4~5μm，以确保在低电流密度区域内充分覆盖镀层，防止后续镀铜液对基体的腐蚀。
镀铜
钕铁硼件镀铜指预镀镍与面层镍层之间的中间镀铜，其目的是要依靠铜层来增加镀层的总厚度，从而降低面镍层的厚度。
镍-铜-镍复合镀铜工艺在钕铁硼件上不稳定是其主要缺陷。
业界一致认为，电镀铜采用氰化工艺，镀液稳定，抗污染能力强，深镀性好，镀层光亮均匀，柔软，受力低，各方面性能均衡稳定。
但是，氰化物属于剧毒物质，国家对其管理和使用有严格的限制，目前只有少数厂家采用此工艺。
酸镀铜工艺对预镀层要求极高，稍加控制不好就会导致钕铁硼基体腐蚀，而且酸性镀铜镀半光亮镍打底结合力差，而钕铁硼一般采用半光亮镍打底，因此在当前钕铁硼镀镍/铜/镍体系中，不建议采用滚镀铜工艺。
鑫磊磁电小编了解到钕铁硼镀铜目前主要采用焦磷酸盐镀铜工艺，其次是柠檬酸盐镀铜工艺。两种工艺均对镀层质量有较高要求，否则就会产生置换铜现象，影响镀层结合力，污染镀液。在生产中，钕铁硼滚镀焦磷酸铜的溶液的稳定性较差，说明该钕铁硼基体逐渐被镀液腐蚀，产品被镀液污染。
